在電子半導(dǎo)體，芯片，硅晶，電池等產(chǎn)品的制造過(guò)程中，超純水中總有機(jī)碳TOC(Total Organic Carbon)的含量，是評(píng)估水中有機(jī)物含量的指標(biāo)之一，對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量和性能有著至關(guān)重要的影響。

在半導(dǎo)體制造工藝中，對(duì)于純水設(shè)備和超純水系統(tǒng)中的離子和有機(jī)污染物方面有最嚴(yán)格的要求。在其超純水系統(tǒng)中控制和測(cè)量這些污染物已經(jīng)使半導(dǎo)體制造企業(yè)能夠提高產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)能。水凈化處理技術(shù)發(fā)展和這些污染物檢測(cè)儀器的創(chuàng)新在改善和檢測(cè)超純水水質(zhì)方面，已經(jīng)發(fā)揮了重大作用。接著這些進(jìn)步又推動(dòng)超純水中的各項(xiàng)污染物的允許極限值不斷降低。

總有機(jī)碳（TOC）分析技術(shù)是用于監(jiān)測(cè)超純水有機(jī)污染物含量和“健康的”的超純水系統(tǒng)的強(qiáng)有力工具。在過(guò)去數(shù)十年間，超純水TOC項(xiàng)的檢測(cè)極限降低了幾個(gè)數(shù)量級(jí)，導(dǎo)致TOC含量檢測(cè)極限從ppb級(jí)朝ppt級(jí)發(fā)展。隨著未來(lái)的新一代芯片技術(shù)預(yù)計(jì)將達(dá)到更窄的線寬，半導(dǎo)體制造企業(yè)對(duì)超純水的要求不僅是更低濃度含量的有機(jī)物和離子污染物，而且檢測(cè)儀器也需要能夠精確，快速地進(jìn)行檢測(cè)和響應(yīng)。

為什么要脫除超純水中有機(jī)碳？

超純水中的有機(jī)碳（TOC）含量過(guò)高，對(duì)電子半導(dǎo)體會(huì)產(chǎn)生諸多不良影響：

1. 有機(jī)物和雜質(zhì)殘留在產(chǎn)品上，會(huì)導(dǎo)致電子元器件性能下降，失效。

2. 有機(jī)物在特定條件下，會(huì)發(fā)生氧化反應(yīng)，導(dǎo)致半導(dǎo)體材料氧化和腐蝕，損壞電子器件的結(jié)構(gòu)和功能。

3. 當(dāng)有機(jī)物殘留在水中時(shí)，會(huì)形成氣泡或微小氣體團(tuán)附著在產(chǎn)品表面，損壞電子器件的結(jié)構(gòu)和功能。

4. 降低超純水的清潔效果，無(wú)法有效去除表面的污染物和雜質(zhì)。

目前，ClearUV紫外線TOC脫除器，可以高效降解TOC，將超純水有機(jī)碳TOC含量控制在行業(yè)安全范圍內(nèi),以確保產(chǎn)品的品質(zhì)和性能。