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超純水在半導體制造中的具體用途

發(fā)布日期:2024-07-19 15:26:11    文章編輯:東莞市杰邦水處理有限公司    閱讀量: 1195

超純水是指經(jīng)過特殊處理,達到非常高純度的水。它通常被用于需要非常低雜質(zhì)含量的科學實驗、半導體制造、制藥和電力行業(yè)等領(lǐng)域。隨著半導體器件尺寸的不斷縮小,對超純水的純度要求也日益提高。微小的雜質(zhì)可能會影響器件的性能和可靠性。因此,在半導體制造過程中所使用的超純水必須經(jīng)過嚴格的凈化處理,以確保其電阻率(或者電導率)達到18.2 MΩ·cm以上,并且電導率低于0.055 μS/cm。此外,生產(chǎn)和使用超純水還須遵循嚴格的控制程序,以防止二次污染。以保證最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,以下是超純水在半導體制造中的一些具體用途。


1.清洗:在半導體制造過程中,需要多次清洗晶圓(硅片),以去除其表面的微粒、有機物、金屬離子和其他污染物。超純水因為其雜質(zhì)含量極低,是清洗的理想介質(zhì),能夠有效去除這些污染物,以防止它們對器件性能產(chǎn)生影響。

2.濕法蝕刻:在濕法蝕刻過程中,超純水作為稀釋劑或反應介質(zhì),用于控制蝕刻速率和選擇性,確保蝕刻過程的均勻性和精確性。

3.化學機械拋光:化學機械拋光過程中,使用超純水來稀釋拋光劑,并清洗晶圓表面,以去除拋光過程中產(chǎn)生的磨料和污染物。

4.離子注入:在進行離子注入時,需要使用超純水清洗晶圓,以去除注入過程中產(chǎn)生的殘留物,確保注入的均勻和準確。

5.光刻:光刻工藝中使用超純水清洗光刻膠和晶圓表面,去除殘留的光刻膠和污染物,以確保光刻圖案清晰和精確。

6.濕法檢測:濕法檢測使用超純水來測試晶圓的電性能,以確保其符合設(shè)計規(guī)格。

7.濕法去膜:在某些工藝步驟中,需要除去晶圓表面的一些薄膜,采用濕法去膜的方法,使用超純水作為去膜劑,以去除這些薄膜而不引入新的污染物。

8.濕法清洗設(shè)備:是指在半導體制造設(shè)備的維護和清洗過程中,采用超純水清洗設(shè)備內(nèi)部,以去除殘留的化學品和微粒,預防設(shè)備污染。

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